Chemie pro výrobu DPS

Leptaci roztok L-1 ELCHEMCO 200ml P010 (chlorid železitý) Leptací roztok pro vyleptání obrazce plošných spojů Jako leptací rezist je možno...

Leptaci roztok L-1 ELCHEMCO 500ml (chlorid železitý) Leptací roztok pro vyleptání obrazce plošných spojů Jako leptací rezist je možno...

Leptaci roztok L-1 ELCHEMCO 1000ml (chlorid železitý) Leptací roztok pro vyleptání obrazce plošných spojů Jako leptací rezist je možno...

Vývojka negativního fotorezitu Photec 2050 (pevný uhličitan sodný) Vývojka negativního fotorezitu Photec 2050 (Na2CO3) k vyvolání motivu...

Tato vývojka je ideálně vhodná pro desky plošných spojů Ani když nedopatřením zvolíte příliš dlouhý čas procesu vyvíjení, nebude to...

Tato speciální vývojka pro negativ s uhličitanem sodným je speciálně určen pro mosazné pláty s fotocitlivou vrstvou EAN: 4016138529050

Obsahuje 1,5% hydroxid sodný Před použitím nařeďte destilovanou vodou na koncentraci doporučenou pro daný typ fotoemulze,